Strukturierte Komponentendaten · 2026

Chrom-Strichgitter

Die Chrom-Strichgitterschicht ist eine kritische Komponente in optischen Encoder-Strichgitterscheiben, bestehend aus einem Substrat (typischerweise Glas oder Quarz), das mit einer dünnen, präzise strukturierten Chromschicht beschichtet ist.

Technische Definition und Einsatzkontext
Ein typisches Chrom-Strichgitter wird in Herstellung von Computern, elektronischen und optischen Erzeugnissen nach Material, Toleranz, Montage- und Anwendungskompatibilität sowie Ausfallrisiko bewertet.

Die Chrom-Strichgitterschicht ist eine kritische Komponente in optischen Encoder-Strichgitterscheiben für Präzisionsmessungen. Sie besteht aus einem Substrat (typischerweise Glas oder Quarz), das mit einer dünnen, präzise strukturierten Chromschicht beschichtet ist. Diese Schicht weist abwechselnd reflektierende (Chrom) und transparente (Substrat) Linien mit Mikrometer-Pitch auf, wodurch ein Beugungsgitter entsteht, das Licht moduliert, um genaue Winkel- oder Linearpositionsmessungen zu ermöglichen. Das Muster wird durch Fotolithografie und Ätzprozesse mit Submikrometer-Genauigkeit erzeugt, was in hochwertigen Encodern eine Auflösung bis in den Nanometerbereich ermöglicht. Die Chrom-Strichgitterschicht funktioniert durch Beugung des einfallenden Lichts einer LED- oder Laserquelle. Während sich die Gitterscheibe dreht oder bewegt, erzeugen die abwechselnden Chromlinien und transparenten Lücken periodische Schwankungen der Lichtintensität, die von Fotodioden erfasst werden. Diese Schwankungen werden in elektrische Signale umgewandelt, die Position, Geschwindigkeit oder Richtung durch Interpolation der sinusförmigen Wellenformen bestimmen, die durch das Beugungsmuster erzeugt werden.

Komponentenspezifikationen

Definition
Die Chrom-Strichgitterschicht ist eine kritische Komponente in optischen Encoder-Strichgitterscheiben für Präzisionsmessungen. Sie besteht aus einem Substrat (typischerweise Glas oder Quarz), das mit einer dünnen, präzise strukturierten Chromschicht beschichtet ist. Diese Schicht weist abwechselnd reflektierende (Chrom) und transparente (Substrat) Linien mit Mikrometer-Pitch auf, wodurch ein Beugungsgitter entsteht, das Licht moduliert, um genaue Winkel- oder Linearpositionsmessungen zu ermöglichen. Das Muster wird durch Fotolithografie und Ätzprozesse mit Submikrometer-Genauigkeit erzeugt, was in hochwertigen Encodern eine Auflösung bis in den Nanometerbereich ermöglicht.

Die Chrom-Strichgitterschicht funktioniert durch Beugung des einfallenden Lichts einer LED- oder Laserquelle. Während sich die Gitterscheibe dreht oder bewegt, erzeugen die abwechselnden Chromlinien und transparenten Lücken periodische Schwankungen der Lichtintensität, die von Fotodioden erfasst werden. Diese Schwankungen werden in elektrische Signale umgewandelt, die Position, Geschwindigkeit oder Richtung durch Interpolation der sinusförmigen Wellenformen bestimmen, die durch das Beugungsmuster erzeugt werden.
Funktionsprinzip
The chrome grating layer works by diffracting incident light from an LED or laser source. As the grating disc rotates or moves, the alternating chrome lines and transparent gaps create periodic variations in light intensity when detected by photodiodes. These variations are converted into electrical signals that determine position, speed, or direction through interpolation of the sinusoidal waveforms generated by the diffraction pattern.
Materialien
Substrat: Borosilikatglas (z. B. Corning 7740) oder QuarzglasBeschichtung: Chrom (Cr)-Schicht 80-120 nm dickoft mit einer Haftschicht aus Chromoxid oder Titanoptionale Antireflexbeschichtung: Siliziumdioxid (SiO2) oder Magnesiumfluorid (MgF2).
Pitch
2-20 μm
Flatness
< λ/4 @ 632.8 nm
Line Width
1-10 μm
Reflectivity
> 60% @ 650 nm
Surface Quality
40-20 scratch-dig
Chrome Thickness
80-120 nm
Pattern Accuracy
±0.1 μm
Substrate Thickness
0.5-3 mm
Normen
ISO 10110ISO 14997DIN 3140DIN 58196

Branchentaxonomie & Aliasse

Gebräuchliche Handelsnamen, technische Kennungen und Suchbegriffe für Chrom-Strichgitter.

Uebergeordnete Produkte

Diese Komponente wird in den folgenden Industrieprodukten eingesetzt.

FMEA · Fehleranalyse

Ursache → Fehlermodus → Engineering-Massnahme

Insufficient chrome-substrate adhesion->Pattern delamination during thermal cycling->Implement proper surface pretreatment (oxygen plasma cleaning) and adhesion layer (CrOx or Ti) before chrome deposition
Photolithography mask alignment error->Pitch inaccuracy causing interpolation errors->Use laser interferometer-controlled mask aligners with < 0.05 μm alignment accuracy and implement statistical process control
Substrate thermal expansion mismatch with mounting->Pattern distortion under temperature variation->Match substrate CTE to mounting materials and use compliant adhesives with controlled cure shrinkage

Industrielles Ökosystem und technische Bewertung

0
Pattern damage from abrasive cleaning
1
Delamination due to poor adhesion
2
Signal drift from thermal expansion mismatch
3
Contamination reducing light transmission
4
Electrostatic discharge damaging photodiodes

Konformität und Prüfung

tolerance
Pattern pitch tolerance: ±0.1 μm; Line width uniformity: ±5%; Substrate parallelism: < 5 arcseconds
test method
Pattern verification via optical microscopy and laser diffraction; dimensional metrology using white-light interferometry; environmental testing per IEC 60068-2 series

Hersteller für diese Komponente

Relevante Herstellerprofile aus der CNFX-Komponentenfähigkeitstabelle.

Die Herstellerliste dient der Vorrecherche und Einordnung von Fertigungskapazitäten. Sie ist keine Zertifizierung, kein Ranking und keine Transaktionsgarantie.

Beispielhafte Bewertungskriterien aus Einkaufsprozessen

Keine Kundenbewertung und keine Echtzeitdaten. Die Werte zeigen typische Prüfkriterien in RFQ- und Lieferantenbewertungsprozessen.

Technische Dokumentation
4/5
Fertigungsfähigkeit
4/5
Prüfbarkeit
5/5
Lieferantentransparenz
3/5

Die Kriterien dienen als Orientierung für technische Einkaufsprüfungen. Konkrete Kunden, Länder, Bewertungsdaten oder Live-Nachfragen werden nur angezeigt, wenn entsprechende belastbare Daten vorliegen.

Verwandte Komponenten

Haeufige Fragen

What is the typical lifespan of a chrome grating layer in industrial applications?

Properly manufactured chrome grating layers typically last 10+ years in controlled environments, as chromium is highly resistant to oxidation and wear. Lifespan depends on environmental factors like humidity, contaminants, and mechanical stress.

Can chrome grating layers be cleaned if contaminated?

Yes, with extreme care. Use compressed dry air first, then optical-grade solvents like isopropyl alcohol with lint-free wipes. Avoid abrasive cleaners as they can damage the micron-scale patterns.

What causes signal degradation in chrome grating encoders?

Primary causes include contamination on the grating surface, mechanical misalignment, substrate deformation from temperature changes, and chrome layer degradation from aggressive chemicals or prolonged UV exposure.

Kann ich Hersteller direkt kontaktieren?

CNFX ist ein offenes Verzeichnis, keine Handelsplattform und kein Beschaffungsagent. Herstellerprofile und Formulare helfen bei der Vorbereitung des direkten Kontakts.

CNFX Industrial Component Index · Herstellung von Computern, elektronischen und optischen Erzeugnissen

Datenbasis

CNFX-Herstellerprofile, technische Klassifikation, öffentlich verfügbare Produktinformationen und fortlaufende Plausibilitätsprüfung.

Vorläufige technische Einordnung
Diese Seite dient der strukturierten Vorbereitung von Recherche, RFQ und Lieferantenbewertung. Sie ersetzt keine Lieferantenqualifizierung, keine Normenprüfung und keine technische Freigabe durch den Käufer.

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Client-Bibliothek
URN:CNFX:ME:UNIT:CHROME_GRATING_LAYER