Spezialglas-Substrat als Basiselement für präzise optische Encoder-Gitterscheiben.
Ein spezielles Glassubstrat, das als Basiselement in präzisen optischen Encoder-Gitterscheiben dient. Dieses ultraflache, optisch transparente Bauteil ist der Träger für mikroskopische Beugungsgitter, die eine hochauflösende Positions- und Bewegungserkennung in der industriellen Automatisierung, Robotik und Präzisionsmesstechnik ermöglichen. Die thermische Stabilität, Oberflächenqualität und Maßgenauigkeit des Substrats sind entscheidend für die Aufrechterhaltung der Gitterstruktur-Integrität und Messpräzision. Das Glassubstrat bietet eine stabile, optisch transparente Plattform für präzisionsgeätzte Beugungsgitter. Wenn Licht durch das Gitter auf dem Substrat fällt, entstehen Interferenzmuster, die von Fotodioden erfasst werden. Die Dimensionsstabilität des Substrats gewährleistet einen konstanten Gitterabstand, während seine optische Klarheit Lichtstreuung und -verzerrung minimiert, wodurch eine genaue Positionsberechnung durch Phasenvergleich der Interferenzmuster ermöglicht wird.
Gebräuchliche Handelsnamen, technische Kennungen und Suchbegriffe für Glassubstrat.
Diese Komponente wird in den folgenden Industrieprodukten eingesetzt.
Ursache → Fehlermodus → Engineering-Massnahme
Relevante Herstellerprofile aus der CNFX-Komponentenfähigkeitstabelle.
Die Herstellerliste dient der Vorrecherche und Einordnung von Fertigungskapazitäten. Sie ist keine Zertifizierung, kein Ranking und keine Transaktionsgarantie.
Keine Kundenbewertung und keine Echtzeitdaten. Die Werte zeigen typische Prüfkriterien in RFQ- und Lieferantenbewertungsprozessen.
Die Kriterien dienen als Orientierung für technische Einkaufsprüfungen. Konkrete Kunden, Länder, Bewertungsdaten oder Live-Nachfragen werden nur angezeigt, wenn entsprechende belastbare Daten vorliegen.
Borosilikatglas bietet eine ausgezeichnete thermische Stabilität (CTE ~3,25×10⁻⁶/°C) und Kosteneffizienz für die meisten industriellen Anwendungen. Quarzglas bietet eine überlegene thermische Stabilität (CTE <1×10⁻⁶/°C) und eine höhere Temperaturbeständigkeit für extreme Umgebungen, jedoch zu höheren Kosten. Die Wahl hängt vom Betriebstemperaturbereich und den Präzisionsanforderungen ab.
Die Ebenheit des Substrats beeinflusst direkt die Konsistenz des Gitterbilds und die optische Weglänge. Abweichungen von der idealen Ebenheit verursachen Phasenfehler im Interferenzmuster, was zu Ungenauigkeiten bei der Positionsmessung führt. Für hochauflösende Encoder (Nanometerbereich) ist typischerweise eine Ebenheit von λ/20 oder besser erforderlich, um eine Sub-Mikrometer-Messgenauigkeit zu gewährleisten.
Verwenden Sie partikelfreie Tücher mit hochreinem Isopropylalkohol (IPA) unter Reinraumbedingungen. Vermeiden Sie abrasive Materialien und Ultraschallreinigung, sofern nicht ausdrücklich validiert, da sie empfindliche Gitterstrukturen beschädigen können. Vor der Kontaktreinigung wird das Abblasen mit Stickstoff empfohlen, um lose Partikel zu entfernen.
CNFX ist ein offenes Verzeichnis, keine Handelsplattform und kein Beschaffungsagent. Herstellerprofile und Formulare helfen bei der Vorbereitung des direkten Kontakts.
CNFX-Herstellerprofile, technische Klassifikation, öffentlich verfügbare Produktinformationen und fortlaufende Plausibilitätsprüfung.
Informationen zu Einsatzbereich, Spezifikationsgrenzen, Lieferantentypen und RFQ-Vorbereitung anfragen.
Herstellerprofile mit passender Bearbeitungs- oder Montagefähigkeit vergleichen.