Spezialglas-Substrat als Basiselement für präzise optische Encoder-Gitterscheiben.
Ein spezielles Glassubstrat, das als Basiselement in präzisen optischen Encoder-Gitterscheiben dient. Dieses ultraflache, optisch transparente Bauteil ist der Träger für mikroskopische Beugungsgitter, die eine hochauflösende Positions- und Bewegungserkennung in der industriellen Automatisierung, Robotik und Präzisionsmesstechnik ermöglichen. Die thermische Stabilität, Oberflächenqualität und Maßgenauigkeit des Substrats sind entscheidend für die Aufrechterhaltung der Gitterstruktur-Integrität und Messpräzision. Das Glassubstrat bietet eine stabile, optisch transparente Plattform für präzisionsgeätzte Beugungsgitter. Wenn Licht durch das Gitter auf dem Substrat fällt, entstehen Interferenzmuster, die von Fotodioden erfasst werden. Die Dimensionsstabilität des Substrats gewährleistet einen konstanten Gitterabstand, während seine optische Klarheit Lichtstreuung und -verzerrung minimiert, wodurch eine genaue Positionsberechnung durch Phasenvergleich der Interferenzmuster ermöglicht wird.
Gebräuchliche Handelsnamen, technische Kennungen und Suchbegriffe für Glassubstrat.
Diese Komponente wird in den folgenden Industrieprodukten eingesetzt.
Ursache → Fehlermodus → Engineering-Massnahme
Relevante Herstellerprofile aus der CNFX-Komponentenfähigkeitstabelle.
Die Herstellerliste dient der Vorrecherche und Einordnung von Fertigungskapazitäten. Sie ist keine Zertifizierung, kein Ranking und keine Transaktionsgarantie.
Keine Kundenbewertung und keine Echtzeitdaten. Die Werte zeigen typische Prüfkriterien in RFQ- und Lieferantenbewertungsprozessen.
Die Kriterien dienen als Orientierung für technische Einkaufsprüfungen. Konkrete Kunden, Länder, Bewertungsdaten oder Live-Nachfragen werden nur angezeigt, wenn entsprechende belastbare Daten vorliegen.
Borosilicate glass offers excellent thermal stability (CTE ~3.25×10⁻⁶/°C) and cost-effectiveness for most industrial applications. Fused silica provides superior thermal stability (CTE <1×10⁻⁶/°C) and higher temperature resistance for extreme environments, but at higher cost. The choice depends on operating temperature range and precision requirements.
Substrate flatness directly impacts grating pattern consistency and optical path length. Deviations from perfect flatness cause phase errors in the interference pattern, leading to position measurement inaccuracies. For high-resolution encoders (nanometer scale), λ/20 flatness or better is typically required to maintain sub-micron measurement precision.
Use particle-free wipes with high-purity isopropyl alcohol (IPA) in cleanroom conditions. Avoid abrasive materials and ultrasonic cleaning unless specifically validated, as they can damage delicate grating patterns. Nitrogen blow-off is recommended for removing loose particles before contact cleaning.
CNFX ist ein offenes Verzeichnis, keine Handelsplattform und kein Beschaffungsagent. Herstellerprofile und Formulare helfen bei der Vorbereitung des direkten Kontakts.
CNFX-Herstellerprofile, technische Klassifikation, öffentlich verfügbare Produktinformationen und fortlaufende Plausibilitätsprüfung.
Informationen zu Einsatzbereich, Spezifikationsgrenzen, Lieferantentypen und RFQ-Vorbereitung anfragen.
Herstellerprofile mit passender Bearbeitungs- oder Montagefähigkeit vergleichen.