Auf Basis strukturierter CNFX-Herstellerprofile wird Mustererzeugungselement im Bereich Herstellung von Computern, elektronischen und optischen Erzeugnissen anhand von Wellenlängenbereich bis Musterauflösung eingeordnet.
Ein typisches Mustererzeugungselement wird durch die Baugruppe aus Optisches Substrat und Strukturmuster beschrieben. Für industrielle Anwendungen werden Materialauswahl, Fertigungsprozess und Prüfbarkeit gemeinsam bewertet.
Optische Komponente, die strukturierte Lichtmuster für Projektionssysteme erzeugt
Das Mustererzeugungselement moduliert kohärentes Licht von einer Laser- oder LED-Quelle in spezifische strukturierte Muster. Es nutzt optische Prinzipien wie Beugung, Brechung oder Mikrooptik. Diffraktive optische Elemente (DOEs) verwenden Oberflächenreliefmuster, um Licht in gewünschte Konfigurationen zu teilen und umzulenken. Mikrolinsenarrays fokussieren Licht in Arrays von Punkten oder Linien. Gemusterte Masken blockieren oder übertragen Licht, um Formen zu erzeugen. Das Element ist darauf ausgelegt, eine hohe Beugungseffizienz (80–95%) und präzise Musterauflösung (100–500 lp/mm) zu erreichen. Das Arbeitsprinzip beruht auf Interferenz und Phasenmodulation von Licht, die empfindlich auf Wellenlänge und Einfallswinkel reagieren. Das Element muss korrekt mit der Lichtquelle und der Projektionsoptik ausgerichtet sein, um das beabsichtigte Muster zu erzeugen. Umweltfaktoren wie Temperatur und Feuchtigkeit können die Leistung beeinflussen, daher ist das Element für -40 bis 85 °C und 5–95% relative Luftfeuchtigkeit spezifiziert. Die Laserzerstörschwelle gibt die maximale Energiedichte an, die das Element ohne Beschädigung aushält. Die Oberflächenqualität und -ebenheit sind entscheidend, um Streuung zu minimieren und die Muster Genauigkeit zu erhalten.
| Parameter | Typischer Bereich | Hinweise & Auswahlkriterien |
|---|---|---|
| Wellenlängenbereich | 400–700 nm | Visible spectrum; other ranges on request |
| Musterauflösung | 100–500 lp/mm | Higher resolution for finer patterns |
| Beugungseffizienz | 80–95 % | Higher efficiency reduces light loss |
| Substratmaterial | Fused Silica | Low thermal expansion, high transmission |
| Oberflächenebenheit | λ/10 | Ensures pattern accuracyISO 10110 |
| Oberflächenqualität | 20-10 scratch-dig | Higher grade reduces scatterISO 10110 |
| Betriebstemperatur | -40–85 °C | Outside range may cause deformation |
| Luftfeuchtigkeitsbereich | 5–95 % RH | nicht kondensierend |
| Laserschadensschwelle | 5–10 J/cm² | For 1064 nm, 10 ns pulseISO 11254 |
| Substratdurchmesser | 10–100 mm | Sondergrößen verfügbar |
| Dicke | 1–5 mm | Affects mechanical stability |
| Gewicht | 0.5–50 g | Depends on size and thickness |
Die Bereiche sind branchenübliche Richtwerte zur Angebotsvorbereitung und keine Zusage des Lieferanten. Bestätigen Sie jeden Wert und jede Norm vor der Bestellung beim rechtlichen Hersteller.
Ursache → Fehlermodus → Engineering-Maßnahme
Suchbegriffe, Aliase und technische Bezeichnungen für diesen CNFX Datensatz.
Dieses Teil oder Produkt erscheint in den folgenden Systemen und Maschinen.
| Betriebsdruck: | 0 bis 1 atm (nicht unter Druck) |
| Durchflussrate: | Nicht spezifiziert |
| Betriebstemperatur: | -40°C bis +85°C |
Herstellerprofile mit passender Produktionsfähigkeit in China.
Die Herstellerliste dient der Vorrecherche und Einordnung von Fertigungskapazitäten. Sie ist keine Zertifizierung, kein Ranking und keine Transaktionsgarantie.
Keine Kundenbewertung und keine Echtzeitdaten. Die Werte zeigen typische Prüfkriterien in RFQ- und Lieferantenbewertungsprozessen.
Die Kriterien dienen als Orientierung für technische Einkaufsprüfungen. Konkrete Kunden, Länder, Bewertungsdaten oder Live-Nachfragen werden nur angezeigt, wenn entsprechende belastbare Daten vorliegen.
Es wird in Projektoren mit strukturiertem Licht verwendet, um präzise Lichtmuster (Gitter, Punkte, Linien) für 3D-Scanning, Messtechnik und Oberflächenanalyse zu erzeugen.
Als Optionen sind Quarzglas, optisches Glas und Polymersubstrate aufgeführt. Das spezifische Material beeinflusst Leistung und Haltbarkeit.
Wellenlängenbereich, Musterauflösung, Beugungseffizienz, Oberflächenebenheit, Oberflächenqualität, Betriebstemperatur, Feuchtigkeit, Laserzerstörschwelle und Abmessungen. Bestätigen Sie diese mit dem Hersteller für Ihre Anwendung.
Betreiben Sie es innerhalb der spezifizierten Temperatur-, Feuchtigkeits- und Laserzerstörschwellen. Vermeiden Sie Kontamination und physische Beschädigung. Befolgen Sie die Handhabungsrichtlinien des Herstellers.
CNFX ist ein offenes Verzeichnis, keine Handelsplattform und kein Beschaffungsagent. Herstellerprofile und Formulare helfen bei der Vorbereitung des direkten Kontakts.
CNFX-Herstellerprofile, technische Klassifikation, öffentlich verfügbare Produktinformationen und fortlaufende Plausibilitätsprüfung.
Informationen zu Einsatzbereich, Spezifikationsgrenzen, Lieferantentypen und RFQ-Vorbereitung anfragen.
Herstellerprofile mit passender Produkt- und Prozesskompetenz vergleichen.