Strukturierte Komponentendaten · 2026

MEMS-Gyroskop-Chip

Ein MEMS-Gyroskop-Chip ist das mikrogefertigte Silizium-Kernelement, das die Winkelgeschwindigkeit über den Coriolis-Effekt erfasst und misst.

Technische Definition und Einsatzkontext
Ein typisches MEMS-Gyroskop-Chip wird in Herstellung von Computern, elektronischen und optischen Erzeugnissen nach Material, Toleranz, Montage- und Anwendungskompatibilität sowie Ausfallrisiko bewertet.

Ein MEMS-Gyroskop-Chip ist das mikrogefertigte Silizium-Kernelement, das die Winkelgeschwindigkeit über den Coriolis-Effekt erfasst und misst. Es besteht aus vibrierenden Prüfmassen, Sensorelektroden und Antriebsmechanismen, die auf ein Siliziumsubstrat geätzt sind, typischerweise mit einer Fläche von 1-5 mm². Dieser Chip dient als grundlegendes Sensorelement in IMU-Modulen und wandelt mechanische Bewegung in elektrische Signale für Navigations-, Stabilisierungs- und Bewegungserfassungsanwendungen um. Funktioniert nach dem Coriolis-Effekt: Wenn die vibrierenden Prüfmassen des Chips einer Winkelrotation ausgesetzt sind, induzieren Coriolis-Kräfte sekundäre Schwingungen senkrecht sowohl zur Antriebsbewegung als auch zur Rotationsachse. Diese sekundären Schwingungen werden von kapazitiven Sensorelektroden erfasst, wobei die resultierenden Kapazitätsänderungen proportional zur Winkelgeschwindigkeit sind. Der Chip verwendet typischerweise elektrostatischen Antrieb und kapazitive Erfassung mit Resonanzfrequenzen zwischen 10-50 kHz.

Komponentenspezifikationen

Definition
Ein MEMS-Gyroskop-Chip ist das mikrogefertigte Silizium-Kernelement, das die Winkelgeschwindigkeit über den Coriolis-Effekt erfasst und misst. Es besteht aus vibrierenden Prüfmassen, Sensorelektroden und Antriebsmechanismen, die auf ein Siliziumsubstrat geätzt sind, typischerweise mit einer Fläche von 1-5 mm². Dieser Chip dient als grundlegendes Sensorelement in IMU-Modulen und wandelt mechanische Bewegung in elektrische Signale für Navigations-, Stabilisierungs- und Bewegungserfassungsanwendungen um.

Funktioniert nach dem Coriolis-Effekt: Wenn die vibrierenden Prüfmassen des Chips einer Winkelrotation ausgesetzt sind, induzieren Coriolis-Kräfte sekundäre Schwingungen senkrecht sowohl zur Antriebsbewegung als auch zur Rotationsachse. Diese sekundären Schwingungen werden von kapazitiven Sensorelektroden erfasst, wobei die resultierenden Kapazitätsänderungen proportional zur Winkelgeschwindigkeit sind. Der Chip verwendet typischerweise elektrostatischen Antrieb und kapazitive Erfassung mit Resonanzfrequenzen zwischen 10-50 kHz.
Funktionsprinzip
Operates on the Coriolis effect: when the die's vibrating proof masses experience angular rotation, Coriolis forces induce secondary vibrations perpendicular to both the drive motion and rotation axis. These secondary vibrations are detected by capacitive sensing electrodes, with the resulting capacitance changes proportional to angular velocity. The die typically uses electrostatic drive and capacitive sensing with resonant frequencies between 10-50 kHz.
Materialien
Einkristallines Siliziumsubstrat (typischerweise 100-500 μm dick)Siliziumdioxid-IsolationsschichtenAluminium- oder Kupfermetallisierung für ElektrodenSiliziumnitrid-PassivierungsschichtGold- oder Aluminium-Bondpads für elektrische Verbindungen.
Bandwidth
10 to 1000 Hz
Package Size
1.5×1.5 to 5×5 mm²
Noise Density
0.001 to 0.1 °/s/√Hz
Bias Stability
0.1 to 10 °/h
Supply Voltage
1.8 to 5.0 V
Measurement Range
±50 to ±2000 °/s
Resonant Frequency
15-30 kHz
Betriebstemperatur
-40 to +85 °C
Scale Factor Accuracy
0.1% to 1%
Normen
ISO 9001ISO/TS 16949IEC 60747-14MIL-STD-883AEC-Q100

Branchentaxonomie & Aliasse

Gebräuchliche Handelsnamen, technische Kennungen und Suchbegriffe für MEMS-Gyroskop-Chip.

Übergeordnete Produkte

Diese Komponente wird in den folgenden Industrieprodukten eingesetzt.

FMEA · Fehleranalyse

Ursache → Fehlermodus → Engineering-Massnahme

Particulate contamination during wafer processing->Increased mechanical damping or complete stiction->Clean room processing (Class 100 or better), particle monitoring, proper handling procedures
Electrostatic discharge during handling->Dielectric breakdown of sensing electrodes->ESD-protected workstations, proper grounding, antistatic packaging materials
Mechanical shock during assembly->Fracture of delicate proof mass structures->Shock-absorbing assembly fixtures, controlled force application, visual inspection

Industrielles Ökosystem und technische Bewertung

0
Stiction during operation or storage
1
Mechanical fracture from shock/vibration
2
Electrostatic discharge damage
3
Contamination from packaging processes
4
Thermal stress-induced performance drift
5
Hermetic seal failure in final package

Konformität und Prüfung

tolerance
Angular rate measurement accuracy within ±0.5% of full scale, bias stability within specified temperature range, linearity error <0.1% FS
test method
Rate table testing for scale factor and bias, temperature cycling (-40°C to +85°C), vibration testing (20-2000 Hz), shock testing (up to 5000 g), long-term stability testing, electrical parameter verification

Hersteller für diese Komponente

Relevante Herstellerprofile aus der CNFX-Komponentenfähigkeitstabelle.

Die Herstellerliste dient der Vorrecherche und Einordnung von Fertigungskapazitäten. Sie ist keine Zertifizierung, kein Ranking und keine Transaktionsgarantie.

Beispielhafte Bewertungskriterien aus Einkaufsprozessen

Keine Kundenbewertung und keine Echtzeitdaten. Die Werte zeigen typische Prüfkriterien in RFQ- und Lieferantenbewertungsprozessen.

Technische Dokumentation
4/5
Fertigungsfähigkeit
4/5
Prüfbarkeit
5/5
Lieferantentransparenz
3/5

Die Kriterien dienen als Orientierung für technische Einkaufsprüfungen. Konkrete Kunden, Länder, Bewertungsdaten oder Live-Nachfragen werden nur angezeigt, wenn entsprechende belastbare Daten vorliegen.

Verwandte Komponenten

Häufige Fragen

What is the difference between MEMS gyroscope die and packaged gyroscope?

The MEMS gyroscope die is the bare silicon sensor element without packaging, while packaged gyroscopes include the die mounted in a protective housing with electrical connections and sometimes integrated ASIC for signal conditioning.

How does temperature affect MEMS gyroscope die performance?

Temperature variations cause changes in silicon mechanical properties and electronic characteristics, leading to bias drift and scale factor errors. High-performance dies incorporate temperature compensation structures or require external temperature sensors and compensation algorithms.

What are typical failure modes of MEMS gyroscope dies?

Common failures include stiction (sticking of moving parts), fracture of delicate structures, electrode degradation, contamination from packaging processes, and electrical overstress damage to sensing circuits.

Kann ich Hersteller direkt kontaktieren?

CNFX ist ein offenes Verzeichnis, keine Handelsplattform und kein Beschaffungsagent. Herstellerprofile und Formulare helfen bei der Vorbereitung des direkten Kontakts.

CNFX Industrial Component Index · Herstellung von Computern, elektronischen und optischen Erzeugnissen

Datenbasis

CNFX-Herstellerprofile, technische Klassifikation, öffentlich verfügbare Produktinformationen und fortlaufende Plausibilitätsprüfung.

Vorläufige technische Einordnung
Diese Seite dient der strukturierten Vorbereitung von Recherche, RFQ und Lieferantenbewertung. Sie ersetzt keine Lieferantenqualifizierung, keine Normenprüfung und keine technische Freigabe durch den Käufer.

Beschaffungsinformationen anfragen für MEMS-Gyroskop-Chip

Informationen zu Einsatzbereich, Spezifikationsgrenzen, Lieferantentypen und RFQ-Vorbereitung anfragen.

Vielen Dank. Ihre Anfrage wurde gesendet.
Senden fehlgeschlagen. Bitte erneut versuchen oder schreiben Sie uns an contact@cnfx.com.

Fertigung für MEMS-Gyroskop-Chip?

Herstellerprofile mit passender Bearbeitungs- oder Montagefähigkeit vergleichen.

Herstellerprofil anlegen Kontakt
Vorherige Komponente
MEMS-Beschleunigungssensor-Chip
Nächste Komponente
MEMS-Mikrofon-Elemente
URN:CNFX:ME:UNIT:MEMS_GYROSCOPE_DIE