Strukturierte Fertigungsdaten · 2026

Hochreines Quarzglas-Pulver

Auf Basis strukturierter CNFX-Herstellerprofile wird Hochreines Quarzglas-Pulver im Bereich Herstellung von Nichtmetallischen Mineralprodukten anhand von SiO₂ Reinheit bis Partikelgröße D50 eingeordnet.

Technische Definition und Kernbaugruppe

Ein typisches Hochreines Quarzglas-Pulver wird durch die Baugruppe aus Siliziumdioxid-Matrix und Oberflächenmodifikator beschrieben. Für industrielle Anwendungen werden Materialauswahl, Fertigungsprozess und Prüfbarkeit gemeinsam bewertet.

Ultrareines amorphes Siliziumdioxid-Pulver für industrielle Anwendungen

Technische Definition

Hochreines Quarzglas-Pulver ist eine amorphe, nicht-kristalline Form von Siliziumdioxid, die durch Schmelzen von hochwertigem Quarzsand bei extrem hohen Temperaturen, gefolgt von schneller Abkühlung und Pulverisierung, hergestellt wird. Dieses Material weist eine außergewöhnliche thermische Stabilität, chemische Inertheit und einen niedrigen thermischen Ausdehnungskoeffizienten auf, was es für fortschrittliche Fertigungsprozesse unverzichtbar macht. Es dient als kritischer Rohstoff in der Herstellung von Präzisionskeramiken, Wachsausschmelzformen, feuerfesten Auskleidungen und elektronischen Bauteilen. Die hohe Reinheit und die konsistente Partikelgrößenverteilung des Materials gewährleisten eine zuverlässige Leistung in anspruchsvollen industriellen Umgebungen, in denen Kontamination oder Dimensionsinstabilität nicht toleriert werden können.

Funktionsprinzip

Bietet Dimensionsstabilität und chemische Beständigkeit durch seine amorphe Struktur und hochreine Zusammensetzung.

Technische Parameter

SiO₂ Reinheit
Mindestgehalt an Siliciumdioxid%
Partikelgröße D50
Medianer Partikeldurchmesserµm
Schüttdichte
Locker geschüttete Dichteg/cm³
Wärmeausdehnungskoeffizient
Lineare Ausdehnung von 0-300°C×10⁻⁷/°C
Glühverlust
Gewichtsverlust bei 1000°CProzent
Spezifische Oberfläche
BET-Oberflächenmessungm²/g

Hauptmaterialien

Siliziumdioxid (SiO₂) Spurenmineralische Zusätze

Komponenten / BOM

Siliziumdioxid-Matrix
Primäre strukturelle und chemische Komponente
Material: Amorphes SiO₂
Oberflächenmodifikator
Verbessert Dispersions- und Fließeigenschaften
Material: Organosilan-Verbindung
Partikelgrößenverteilungsmittel
Steuert Partikelaggregation und -verteilung
Material: Anorganisches Dispergiermittel

FMEA · Fehleranalyse

Ursache → Fehlermodus → Engineering-Maßnahme

Feuchtigkeitsaufnahme > 0,1 Gew.-% Agglomeration und Flussbehinderung in pneumatischen Fördersystemen Integriertes Trockenmittelbett mit Feuchtesensor-Rückkopplungsschleife, die <5 % relative Luftfeuchtigkeit aufrechterhält
Elektrostatische Aufladung > 5 kV Partikelhaftung an Geräteoberflächen, die zu Brückenbildung und Flussunterbrechung führt Erdungssystem mit leitfähigen Auskleidungen und ionisierter Lufteinspritzung an Übergabepunkten

Technische Bewertung

Betriebsbereich
Betriebsbereich
0,1–100 MPa Druckspannung, -200 °C bis 1200 °C Temperatur
Belastungs- und Ausfallgrenzen
Druckspannung > 100 MPa verursacht Partikelbruch, Temperatur > 1200 °C initiiert Kristallisation
Sprödbruch an Spannungskonzentrationspunkten, die die Materialstreckgrenze überschreiten, Entglasung bei hohen Temperaturen aufgrund der Keimbildung von Cristobalit-Kristallen
Fertigungskontext
Hochreines Quarzglas-Pulver wird innerhalb von Herstellung von Nichtmetallischen Mineralprodukten nach Material, Prozessfenster und Prüfanforderungen bewertet.

Weitere Produktbezeichnungen

amorphous silica powder fused quartz powder vitreous silica powder

Taxonomie und Suchbegriffe

Suchbegriffe, Aliase und technische Bezeichnungen für diesen CNFX Datensatz.

Industrielles Ökosystem und Lieferkette

Eignung und Auslegungsdaten

Betriebsgrenzen
Traglast:Atmosphärisch bis 100 bar (in Suspensionsanwendungen)
Verstellbereich / Reichweite:Abhängig von Partikelgrößenverteilung und Suspensionsviskosität
Einsatztemperatur:-100 °C bis 1200 °C (Dauerbetrieb), bis zu 1700 °C (kurzzeitig)
Montage- und Anwendungskompatibilität
Hochreine chemische ProzessumgebungenHalbleiterherstellungssuspensionenHochtemperatur-Keramikbindemittel
Nicht geeignet: Flusssäure oder stark alkalische Lösungen (pH > 12)
Auslegungsdaten
  • Erforderliche Partikelgrößenverteilung (D10, D50, D90)
  • Ziel-Suspensionsviskosität oder Fließeigenschaften
  • Reinheitsanforderungen (Grenzwerte für Spurenelemente)

Zuverlässigkeits- und Risikoanalyse

Ausfallmodus und Ursache
Partikelagglomeration und Brückenbildung
Cause: Feuchtigkeitsaufnahme aufgrund unsachgemäßer Lagerung oder Handhabung, die zu Klumpenbildung führt, die den Fluss stört und Geräteblockaden in pneumatischen Fördersystemen verursacht.
Abrasive Verschleiß in Förder- und Verarbeitungsanlagen
Cause: Hohe Härte (Mohs 7) der Siliziumdioxid-Partikel, die einen beschleunigten Verschleiß von Metalloberflächen, Dichtungen und Ventilkomponenten während des Transports und der Handhabung verursacht.
Wartungsindikatoren
  • Sichtbare Pulveransammlungen um Dichtungen, Verbindungen oder Entlüftungen, die auf einen Dichtungsversagen und mögliche Kontamination hinweisen
  • Hörbare Veränderungen in pneumatischen Fördersystemen (reduziertes Strömungsgeräusch, unregelmäßiger Zyklus), die auf Blockaden oder Strömungsbehinderungen hindeuten
Technische Hinweise
  • Strikte Feuchtigkeitskontrolle mit Trockenmittelsystemen in Lagertanks implementieren und relative Luftfeuchtigkeit unter 40 % halten, um Agglomeration zu verhindern
  • Verschleißfeste Materialien (keramikausgekleidete Rohre, Polyurethankomponenten) in Hochgeschwindigkeitszonen verwenden und regelmäßige Dickenüberwachung kritischer Verschleißstellen durchführen

Compliance & Manufacturing Standards

Reference Standards
ISO 21587:2007 (Chemische Analyse von aluminosilikatischen feuerfesten Erzeugnissen)ASTM E1269-23 (Standardtestverfahren zur Bestimmung der spezifischen Wärmekapazität mittels Dynamischer Differenzkalorimetrie)DIN 51045-1:2005-08 (Bestimmung der Wärmeausdehnung fester Stoffe)
Manufacturing Precision
  • Partikelgrößenverteilung: +/- 5 % des spezifizierten Bereichs
  • Chemische Reinheit: SiO₂-Gehalt ≥ 99,95 %
Quality Inspection
  • Röntgenfluoreszenzanalyse (RFA) für die elementare Zusammensetzung
  • Laserbeugung zur Partikelgrößenanalyse

Hersteller, die dieses Produkt fertigen

Herstellerprofile mit passender Produktionsfähigkeit in China.

Die Herstellerliste dient der Vorrecherche und Einordnung von Fertigungskapazitäten. Sie ist keine Zertifizierung, kein Ranking und keine Transaktionsgarantie.

Beispielhafte Bewertungskriterien aus Einkaufsprozessen

Keine Kundenbewertung und keine Echtzeitdaten. Die Werte zeigen typische Prüfkriterien in RFQ- und Lieferantenbewertungsprozessen.

Technische Dokumentation
4/5
Fertigungsfähigkeit
4/5
Prüfbarkeit
5/5
Lieferantentransparenz
3/5

Die Kriterien dienen als Orientierung für technische Einkaufsprüfungen. Konkrete Kunden, Länder, Bewertungsdaten oder Live-Nachfragen werden nur angezeigt, wenn entsprechende belastbare Daten vorliegen.

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Häufige Fragen

Was sind die primären industriellen Anwendungen für hochreines Quarzglas-Pulver?

Hochreines Quarzglas-Pulver wird in Keramiken, feuerfesten Materialien, Wachsausschmelzverfahren, Elektronik, optischen Komponenten und als Füllstoff in Polymeren und Verbundwerkstoffen eingesetzt, wo thermische Stabilität und chemische Inertheit erforderlich sind.

Wie beeinflusst die Partikelgrößenverteilung die Leistung von Quarzglas-Pulver?

Die Partikelgrößenverteilung (insbesondere D50) bestimmt die Packungsdichte, Fließeigenschaften, spezifische Oberfläche und Reaktivität. Eine kontrollierte Verteilung gewährleistet eine konsistente Leistung in Anwendungen wie Beschichtungen, Verbundwerkstoffen und Präzisionsguss.

Welche Vorteile bietet eine hohe SiO₂-Reinheit (>99 %) in industriellen Anwendungen?

Hohe Reinheit minimiert Verunreinigungen, die die thermische Ausdehnung, chemische Beständigkeit, elektrische Eigenschaften und optische Klarheit beeinflussen können. Dies gewährleistet ein vorhersehbares Verhalten in Hochtemperatur- und korrosiven Umgebungen.

Kann ich Hersteller direkt kontaktieren?

CNFX ist ein offenes Verzeichnis, keine Handelsplattform und kein Beschaffungsagent. Herstellerprofile und Formulare helfen bei der Vorbereitung des direkten Kontakts.

CNFX Industrial Index v2.6.05 · Herstellung von Nichtmetallischen Mineralprodukten

Datenbasis

CNFX-Herstellerprofile, technische Klassifikation, öffentlich verfügbare Produktinformationen und fortlaufende Plausibilitätsprüfung.

Vorläufige technische Einordnung
Diese Seite dient der strukturierten Vorbereitung von Recherche, RFQ und Lieferantenbewertung. Sie ersetzt keine Lieferantenqualifizierung, keine Normenprüfung und keine technische Freigabe durch den Käufer.

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