Strukturierte Fertigungsdaten · 2026

Wafer-Prober

Auf Basis strukturierter CNFX-Herstellerprofile wird Wafer-Prober im Bereich Herstellung von Computern, elektronischen und optischen Erzeugnissen anhand von Wafergröße bis Positioniergenauigkeit eingeordnet.

Technische Definition und Kernbaugruppe

Ein typisches Wafer-Prober wird durch die Baugruppe aus Präzisionsstufe und Prüfkarte beschrieben. Für industrielle Anwendungen werden Materialauswahl, Fertigungsprozess und Prüfbarkeit gemeinsam bewertet.

Ein Halbleiterprüfgerät, das elektrischen Kontakt mit integrierten Schaltkreisen auf einem Wafer herstellt, um die Leistung zu verifizieren.

Technische Definition

Ein Wafer-Prober ist ein präzises elektromechanisches System, das in der Halbleiterfertigung eingesetzt wird, um einzelne integrierte Schaltkreise (ICs) auf einem Siliziumwafer vor dem Vereinzeln zu testen. Er positioniert den Wafer unter einer Probenkarte, die mikroskopische Nadeln enthält, die temporären elektrischen Kontakt mit den Bondpads der ICs herstellen, wodurch Funktionstests, Parametermessungen und die Sortierung der Bauelemente ermöglicht werden. Dieser kritische Qualitätskontrollschritt identifiziert defekte Chips früh im Produktionsprozess. Das System besteht typischerweise aus einem Vakuumchuck zum Halten des Wafers, einem präzisen XYZ-Tisch zur Positionierung und einer Probenkarte mit feinen Nadeln aus Wolfram oder Berylliumkupfer. Der Prober kommuniziert mit automatischen Testgeräten (ATE), um Tests Signale zu übertragen und elektrische Eigenschaften zu messen. Zu den wichtigsten Parametern gehören: Wafergröße (150–300 mm), Positioniergenauigkeit (±0,5 μm), Durchsatz (100–200 Wafers pro Stunde), Anzahl der Probenkanäle (128–1024), Temperaturbereich (-40 bis 150 °C), Chuck-Ebenheit (±1 μm), Probenkraftbereich (10–150 g), elektrischer Kontaktwiderstand (<1 Ω), Leckstrom (<1 pA bei 25 °C, 50 % relative Luftfeuchtigkeit), Betriebsluftfeuchtigkeit (20–80 % relative Luftfeuchtigkeit, nicht kondensierend), Stromversorgung (220 V AC ±10 %, 50/60 Hz), Maschinengewicht (800–1200 kg) und Stellfläche (1,5–2,5 m²). Verwendete Materialien umfassen Edelstahl, Aluminiumlegierung, Keramik und Wolfram. Der Parameter Wafergröße bezieht sich auf den SEMI-M1-Standard. Vor der Beschaffung sollten Sie modellspezifische Werte und Standards mit dem Hersteller oder Lieferanten verifizieren.

Funktionsprinzip

Der Wafer-Prober lädt einen Halbleiterwafer auf einen Vakuumchuck, der ihn sicher hält. Ein präziser XYZ-Tisch positioniert den Wafer so, dass bestimmte Chip-Positionen genau unter einer im Proberkopf montierten Probenkarte ausgerichtet sind. Die Probenkarte enthält eine Anordnung feiner Wolfram- oder Berylliumkupfer-Nadeln, die sich absenken, um temporären elektrischen Kontakt mit den Bondpads jedes ICs herzustellen. Testsignale werden dann über diese Sonden von automatischen Testgeräten (ATE) übertragen, um elektrische Eigenschaften zu messen, die Funktionalität zu verifizieren und die Bauelemente in Leistungskategorien zu sortieren. Nach dem Testen jedes Chips bewegt sich der Tisch zur nächsten Position, bis alle Bauelemente auf dem Wafer bewertet sind.

Technische Parameter

Technische Parameter
ParameterTypischer BereichHinweise & Auswahlkriterien
Wafergröße150–300 mmMaximaler Durchmesser von Halbleiter-Wafern, den der Prober verarbeiten kannSEMI M1
Positioniergenauigkeit±0.5 µmPräzision der Waferstufenbewegung und -ausrichtung
Durchsatz100–200 WphMaximale Anzahl pro Stunde getesteter Wafer
Anzahl der Prüfkanäle128–1024 KanäleMaximale Anzahl unterstützter elektrischer Testkanäle
Temperaturbereich-40–150 Grad CelsiusBetriebstemperaturbereich für thermische Prüfkapazität
Ebenheit des Chuck±1 µmEnsures uniform contact
Kontaktkraftbereich10–150 gAdjustable per application
Kontaktwiderstand<1 ΩLow for accurate measurements
Leckstrom<1 pAAt 25°C, 50% RH
Betriebsfeuchtigkeit20–80 % RHNon-condensing
Stromversorgung220 ±10% V AC50/60 Hz
Maschinengewicht800–1200 kgDepends on configuration
Stellfläche1.5–2.5 Width × depth

Die Bereiche sind branchenübliche Richtwerte zur Angebotsvorbereitung und keine Zusage des Lieferanten. Bestätigen Sie jeden Wert und jede Norm vor der Bestellung beim rechtlichen Hersteller.

Hauptmaterialien

Edelstahl Aluminiumlegierung Keramik Wolfram

Komponenten / BOM

Components / BOM
  • Präzisionsstufe
    Ermöglicht präzise XYZ-Bewegung und Positionierung des Wafers unter der Prüfkarte
    Material: Granit- oder Keramikbasis mit Präzisions-Linearmotoren
  • Prüfkarte
    Enthält mikroskopische Nadeln, die elektrischen Kontakt mit IC-Bondpads herstellen
    Material: Keramiksubstrat mit Wolfram- oder Beryllium-Kupfer-Sonden
  • Wafer-Chuck
    Hält und sichert den Halbleiterwafer während des Tests
    Material: Aluminium oder Keramik mit Vakuumsystem
  • Bildverarbeitungssystem
    Optisches Ausrichtungssystem für präzise Positionierung von Prüfspitzen zu Kontaktflächen
    Material: CCD-Kameras mit Präzisionsoptik
  • Prüfschnittstelleneinheit
    Verbinder der Prüfkarte mit automatisierten Prüfgeräten (ATE) gemäß DIN 4000-1
    Material: Elektronische Bauteile mit Hochfrequenzsteckverbindern
  • Thermochuck
    Bietet Temperaturregelung für Prüfvorrichtungen bei verschiedenen Temperaturen
    Material: Temperaturgeregelte Metallplatte mit Heiz-/Kühlelementen

FMEA · Fehleranalyse

Ursache → Fehlermodus → Engineering-Maßnahme

Elektrostatische Entladung über 500 V während des Wafer-Handlings Gateoxid-Durchbruch im Prüfling mit Leckstrom > 1 μA Ionisierendes Luftgebläsesystem, das eine Potentialdifferenz von < 100 V zwischen Prüfkarte und Waferteller aufrechterhält
Thermische Ausdehnungsdifferenz zwischen Aluminium-Prüfkarte (CTE 23,1 μm/m·K) und Siliziumwafer (CTE 2,6 μm/m·K) bei 125°C Prüftemperatur Prüfspitzenfehlausrichtung > 5 μm verursacht Unterbrechung Kohlefaser-Verbundwerkstoff-Prüfkartensubstrat mit CTE 2,8 μm/m·K, abgestimmt auf Silizium

Technische Bewertung

Betriebsbereich
Betriebsbereich
0,5-2,0 N Kontaktkraft pro Prüfspitze
Belastungs- und Ausfallgrenzen
3,5 N Kontaktkraft pro Prüfspitze
Plastische Verformung der Prüfspitzen-Wolfram-Rhenium-Legierung (Elastizitätsmodul 411 GPa) überschreitet die Streckgrenze von 2,8 GPa bei 3,5 N, was zu permanenter Spitzengeometrieänderung und Kontaktwiderstandserhöhung führt
Fertigungskontext
Wafer-Prober wird innerhalb von Herstellung von Computern, elektronischen und optischen Erzeugnissen nach Material, Prozessfenster und Prüfanforderungen bewertet.

Weitere Produktbezeichnungen

Semiconductor Wafer Prober Wafer Test System Probe Station IC Wafer Tester

Taxonomie und Suchbegriffe

Suchbegriffe, Aliase und technische Bezeichnungen für diesen CNFX Datensatz.

Industrielles Ökosystem und Lieferkette

Eignung und Auslegungsdaten

Betriebsgrenzen
Betriebsdruck:Kontaktkraft: 0,1 N bis 10 N pro Prüfspitze, Vakuum: 500 bis 760 Torr
Durchflussrate:Nicht spezifiziert
Betriebstemperatur:15°C bis 35°C (Betrieb), 0°C bis 50°C (Lagerung)
Montage- und Anwendungskompatibilität
Reinraumumgebungen (ISO-Klasse 1-5)Halbleitergerechte StickstoffspülsystemeDeionisierte Wasserkühlkreisläufe
Nicht geeignet: Umgebungen mit hoher Partikelbelastung oder korrosiven chemischen Atmosphären
Auslegungsdaten
  • Waferdurchmesser und Materialtyp
  • Anzahl der Teststellen pro Wafer und Prüfkartenkonfiguration
  • Erforderlicher Testdurchsatz (Wafer/Stunde) und elektrische Testspezifikationen

Zuverlässigkeits- und Risikoanalyse

Ausfallmodus und Ursache
Prüfspitzenverschleiß/-beschädigung
Ursache: Wiederholter mechanischer Kontakt mit Wafer-Pads während des Tests führt zu abrasivem Verschleiß, Oxidation oder Kontaminationsablagerungen, was schlechten elektrischen Kontakt und ungenaue Messungen verursacht.
Z-Achsen-Positionsdrift/-ungenauigkeit
Ursache: Verschleiß an Gewindespindeln, Kugelumlaufspindeln oder Linearführungen, gekoppelt mit thermischen Ausdehnungseffekten oder Encoder-Kalibrierungsdrift, was zu inkonsistenter Prüfspitzen-Aufsetzkraft und -tiefe führt.
Wartungsindikatoren
  • Akustisch: Ungewöhnliches Schleif-, Klick- oder hohes Quietschen vom Z-Achsen-Antrieb oder der Prüfkarte während der Bewegung.
  • Visuell: Sichtbare Rückstände, Verfärbungen oder Ablagerungen auf den Prüfspitzen oder der Telleroberfläche oder unregelmäßige Prüfspitzenmarkierungsmuster auf Wafer-Pads unter Vergrößerung.
Technische Hinweise
  • Implementieren Sie einen vorausschauenden Wartungsplan unter Verwendung von Laserinterferometrie oder Kapazitätssensoren, um die Z-Achsen-Positionsgenauigkeit zu überwachen und neu zu kalibrieren, bevor die Drift die Toleranzen überschreitet.
  • Etablieren Sie ein strenges Reinigungs- und Spitzenkonditionierungsprotokoll für Prüfkarten unter Verwendung zugelassener Lösungsmittel und Mikropoliertechniken, gekoppelt mit Umgebungskontrollen, um luftgetragene Kontaminationen in der Proberkammer zu minimieren.

Konformität und Fertigungsnormen

Referenznormen
ISO 14644-1: Reinräume und zugehörige kontrollierte UmgebungenSEMI S2: Umwelt-, Gesundheits- und Sicherheitsrichtlinie für HalbleiterfertigungsausrüstungIEC 61010-1: Sicherheitsanforderungen für elektrische Mess-, Steuer- und Laborgeräte
Fertigungsgenauigkeit
  • Prüfspitzenpositioniergenauigkeit: +/- 1,5 μm
  • Tellerplanheit: 0,005 mm über 200 mm Durchmesser
Qualitätsprüfung
  • Laserinterferometer-Ausrichtungsverifikation
  • Kontaktwiderstands- und Überfahrwiederholbarkeitstests

Hersteller von Wafer-Prober

2 Unternehmen führen dieses Produkt in ihrem eigenen Sortiment. Die Unternehmensangaben stammen von der jeweils eigenen Website; jede Karte nennt die Grundlage der Zuordnung.

SemiShareProber
· CN
Fertigt außerdem: Thermal Chuck、Vibration Table、Semiconductor Wafers und 5 weitere
Laut Produktseite der eigenen Website · Profil von CNFX aus öffentlichen Quellen zusammengestellt
Bezeichnung auf der Website: “Probe Station System”
Quellseite ansehen ↗ semishareprober.com · geprüft am 2026-09-01
Xiamen Dexing Magnet Tech. Co., Ltd.
Xiamen · CN
Fertigt außerdem: Heat Treatment Furnace、Power Amplifier、Light Source / Magnetic Field Generator und 2 weitere
Laut Produktseite der eigenen Website · Profil von CNFX aus öffentlichen Quellen zusammengestellt
Bezeichnung auf der Website: “Probe Station”
Quellseite ansehen ↗ dexinmag.com · geprüft am 2026-09-13

Die Herstellerliste dient der Vorrecherche und Einordnung von Fertigungskapazitäten. Sie ist keine Zertifizierung, kein Ranking und keine Transaktionsgarantie.

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Beispielhafte Bewertungskriterien aus Einkaufsprozessen

Keine Kundenbewertung und keine Echtzeitdaten. Die Werte zeigen typische Prüfkriterien in RFQ- und Lieferantenbewertungsprozessen.

Technische Dokumentation
4/5
Fertigungsfähigkeit
4/5
Prüfbarkeit
5/5
Lieferantentransparenz
3/5

Die Kriterien dienen als Orientierung für technische Einkaufsprüfungen. Konkrete Kunden, Länder, Bewertungsdaten oder Live-Nachfragen werden nur angezeigt, wenn entsprechende belastbare Daten vorliegen.

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Häufige Fragen

Welchen Wafergrößenbereich unterstützt ein Wafer-Prober typischerweise?

Laut Verzeichnisreferenz liegt der Wafergrößenbereich bei 150–300 mm, unter Bezugnahme auf SEMI M1. Die tatsächliche Fähigkeit kann jedoch je nach Modell variieren, daher mit dem Hersteller bestätigen.

Wie stellt ein Wafer-Prober eine genaue Positionierung sicher?

Er verwendet einen präzisen XYZ-Tisch mit einer Positioniergenauigkeit von ±0,5 μm. Der Tisch richtet jeden Chip unter der Probenkarte aus, und die Chuck-Ebenheit beträgt ±1 μm, um einen gleichmäßigen Kontakt zu gewährleisten.

Was ist der Zweck der Probenkarte?

Die Probenkarte enthält feine Nadeln (Wolfram oder Berylliumkupfer), die temporären elektrischen Kontakt mit den Bondpads der ICs herstellen, sodass Testsignale vom ATE elektrische Eigenschaften messen können.

Welche Umgebungsbedingungen sind für den Betrieb erforderlich?

Der Betriebstemperaturbereich liegt bei -40 bis 150 °C, und die Luftfeuchtigkeit sollte 20–80 % relative Luftfeuchtigkeit (nicht kondensierend) betragen. Die Stromversorgung beträgt 220 V AC ±10 %, 50/60 Hz. Überprüfen Sie immer die Spezifikationen des Herstellers.

Kann ich Hersteller direkt kontaktieren?

CNFX ist ein offenes Verzeichnis, keine Handelsplattform und kein Beschaffungsagent. Herstellerprofile und Formulare helfen bei der Vorbereitung des direkten Kontakts.

CNFX Industrial Index v2.6.09 · Herstellung von Computern, elektronischen und optischen Erzeugnissen

Datenbasis

CNFX-Herstellerprofile, technische Klassifikation, öffentlich verfügbare Produktinformationen und fortlaufende Plausibilitätsprüfung.

Vorläufige technische Einordnung
Diese Seite dient der strukturierten Vorbereitung von Recherche, RFQ und Lieferantenbewertung. Sie ersetzt keine Lieferantenqualifizierung, keine Normenprüfung und keine technische Freigabe durch den Käufer.
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